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| 브랜드 이름: | ROYAL |
| 모델 번호: | RTSP1000-IPG |
| MOQ: | 12 세트 |
| 가격: | 협상 가능 |
| 지불 조건: | L/C, D/A, D/P, T/T |
| 공급 능력: | 달 당 6 세트 |
시계 케이스MF 스프터링 시스템 / 그래피트 PVD 퇴적 진공 코팅 플랜트
시계 케이스 MF 스프터링 시스템그것은 일반적인 그래피트, 제트 블랙, 파란색 등에 장식을 위한 통합 여러 퇴적 소스 기계입니다. 금속 부품, 스테인레스 스틸 물체.특히 고급 고급 제품,: 전자제품: 스마트폰, 카메라, 노트북, 골프,?? 스, 포크, 칼, 문 손잡이, 펌프; 손가락 반지, 목걸이, 귀걸이, 팔찌 등의 보석
시계 케이스 MF 스프터링 시스템은 여러 가지 퇴적 원천을 가지고 있습니다.
고금속 타겟의 증발을 위한 유도형 원형 활 원천;
2쌍의 MF 불분결 스프터링 카토드 (MF unblanched sputtering cathodes) 가 그래피트 얇은 필름 층 퇴적에 사용된다.
비아스 전원 공급 장치 (Bias Power Supply) 는 이온 폭격으로 전처리를 위한 플라즈마 영역을 형성합니다.
아노드 선형 이온 원자 단위 (선택 사항) PACVD 및 PECVD 처리;
물 분자 응고용 크리오 펌프 (폴리콜드) (선택)
MF 스프터링이란 무엇입니까?
DC 및 RF 스프터링과 비교하면 중기동 스프터링은 코팅의 대량 생산을위한 주 얇은 필름 스프터링 기술이되었습니다.특히 광학 코팅과 같은 표면에 다이전트릭 및 비전도적 필름 코팅의 필름 퇴적에 사용됩니다., 태양 전지판, 다층, 복합 물질 필름 등
그것은 훨씬 더 빠른 퇴적 속도를 위해 MHz보다는 kHz로 작동하기 때문에 RF 스프터링을 대체하고 있으며 DC와 같은 복합 얇은 필름 퇴적 과정에서 타겟 중독을 피할 수 있습니다.
MF 스프터링 타겟은 항상 두 개의 세트가 있었습니다. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
MF 스프터링 시스템 성능
1최후 진공 압력: 5.0×10 이상-6토르
2작동 진공 압력: 1.0×10-4토르
3펌핑 시간: 1 atm에서 1.0 × 10까지-4타워 ≤ 3분 (실온, 건조하고 깨끗하고 빈 방)
4금속화 물질 (스프터링 + 아크 증발): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC 등
5작동 모델: 완전 자동 / 반 자동 / 수동
MF 스프터링 시스템 구조
진공 코팅 기계는 아래와 같이 나열 된 핵심 완료 시스템을 포함합니다.
1진공실
2험한 진공 펌프 시스템 (백 펌프 패키지)
3. 고 진공 펌프 시스템 (마그네틱 서스펜션 분자 펌프)
4전기 제어 및 운영 시스템
5보조 시설 시스템 (부 시스템)
6퇴적 시스템: MF 스프터링 카थो드, MF 전원 공급, 선택적에 대한 Bias 전원 공급 Ion 소스
금속 그래피트 장식 MF 스프터링 시스템 크기:
방 내부 크기: 직선 1200mm ~ 1600mm
방 내부 높이: 1250mm ~ 1300mm
3차원 제품의 요구에 따라 사용자 정의 기계 크기도 제공됩니다.
MF 스프터링 시스템 RTAC1250-SPMF 사양
| 모델 | RTAC1250-SPMF | ||||||
| 기술 | MF 마그네트론 스프터링 + 이온 플래팅 | ||||||
| 재료 | 스테인리스 스틸 (S304) | ||||||
| 방 크기 | Φ1250*H1250mm | ||||||
| 방의 유형 | 실린더, 수직, 1개의 문 | ||||||
| 스프터링 시스템 | 얇은 흑색 필름 퇴적용으로 설계된 제품 | ||||||
| 제출물질 | 알루미늄, 은, 구리, 크롬, 스테인리스 스틸, 니켈 |
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| 매장 출처 | 2 세트 MF 실린더 스프터링 타겟 + 8 개의 유도 된 카토드 아크 소스 + 이온 소스 선택 사항 | ||||||
| 가스 | MFC-4방법, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| 통제 | PLC (프로그램 가능한 논리 컨트롤러) + | ||||||
| 펌프 시스템 | SV300B - 1 세트 (레이볼드) | ||||||
| WAU1001 - 1 세트 (레이볼드) | |||||||
| D60T-1 세트 (레이볼드) | |||||||
| 터보 분자 펌프: 2* F-400/3500 | |||||||
| 치료 전 | 비아스 전원 공급: 1*36 KW | ||||||
| 안전 시스템 | 많은 안전 잠금 장치 가 운영자 를 보호 합니다 | ||||||
| 냉각 | 차가운 물 | ||||||
| 전력 | 480V/3단계/60HZ (미국 기준) | ||||||
| 460V/3단계/50HZ (아시아가 적합) | |||||||
| 380V/3단계/50HZ (EU-CE 준수) | |||||||
| 발자국 | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| 전체 무게 | 7.0 T | ||||||
| 발자국 | (L*W*H) 5000*4000*4000MM | ||||||
| 사이클 시간 | 30~40분 (지질물질에 따라, 기판 기하학 및 환경 조건) |
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| 파워 맥스 | 155 KW | ||||||
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평균 전력 |
75 KW |
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