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제품 세부 정보

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PVD 금 코팅 장비
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티엔 금 금속 마그네트론 스프터링 코팅 머신, ZrN 골드 플래팅 서비스

티엔 금 금속 마그네트론 스프터링 코팅 머신, ZrN 골드 플래팅 서비스

브랜드 이름: ROYAL
모델 번호: RTAS1250
MOQ: 10개 세트
가격: 협상 가능
지불 조건: L/C, D/A, D/P, T/T
공급 능력: 달 당 6개 세트
자세한 정보
원래 장소:
중국에서 만든
인증:
CE
증착 소스들:
조종 음극 아크 + MF 스퍼터링 음극
기술:
PVD, 균형/불균형 마젠트론 스퍼터링 음극
신청서:
Al2O3, AlN 세라믹 회로 기판, LED, 반도체에 Al2O3 판
영화 특징:
내마모성, 강한 접착력, 장식용 코팅 색상
공장 위치:
상하이 시, 중국
광범위한 서비스:
폴란드 - 유럽 ; 이란 서아시아 & 중동, 터키, 인도, 멕시코 남아메리카
교육 서비스:
공정 방법을 코팅하는 기계 조작, 정비가 프로그래밍합니다
보증:
무료로 제한된 보증 1년, 기계를 위한 평생
OEM 및 ODM:
이용 가능하게, 우리는 맞춰지 디자인과 제작을 지원합니다
포장 세부 사항:
장거리 해양 / 공기와 내륙 수송에 적합한 새로운 사건 / 통에서 싸여지기 위해, 기준을 수출하세요.
공급 능력:
달 당 6개 세트
강조하다:

금속 마그네트론 스프터링 코팅 머신

,

TiN Gold Magnetron Sputtering Coating Machine

제품 설명

 
 
티안 금 금속 중간 주파수 마그네트론 스프터링 코팅 기계 / MF 스프터링 시스템
 
 
 
마그네트론 스프터링 진공 코팅은 PVD 이온 플래팅 표면 처리 메ント의 일종입니다. 그것은 많은 유형의 재료에 전도성 또는 비 전도성 필름의 생산에 사용될 수 있습니다: 금속,유리스프터링 퇴적 개념: 코팅 재료 (목적, 또한 카토드) 및 작업 조각 (기반,또한 애노드 (anode) 라고도 불립니다. 진공 챔버에 넣고 압력을 감소시킵니다.스프터링은 표적을 전압 차량 아래 놓아 아르곤 가스를 도입하여 아르곤 이온을 형성하여 시작됩니다.아르곤 이온은 프로세스 표적을 향해 가속화되고 표적 원자를 이동이 스프터링 원자는 그 다음 기질에 응축되어 매우 얇고 높은 균일성 층을 형성합니다.또는 아세틸렌은 코팅 과정에서 스프터 가스.
 
마그네트론 스프터링 모델: DC 스프터링, MF 스프터링, RF 스프터링
 
MF 스프터링이란 무엇입니까?
 
DC 및 RF 스프터링과 비교하면 중기동 스프터링은 코팅의 대량 생산을위한 주 얇은 필름 스프터링 기술이되었습니다.특히 광학 코팅과 같은 표면에 다이전트릭 및 비전도적 필름 코팅의 필름 퇴적에 사용됩니다., 태양 전지판, 다층, 복합 물질 필름 등
그것은 훨씬 더 빠른 퇴적 속도를 위해 MHz보다는 kHz로 작동하기 때문에 RF 스프터링을 대체하고 있으며 DC와 같은 복합 얇은 필름 퇴적 과정에서 타겟 중독을 피할 수 있습니다.
 
MF 스프터링 타겟은 항상 두 개의 세트로 존재했습니다. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
 
MF 스프터링 시스템 성능
1최후 진공 압력: 5.0×10 이상-6토르
2작동 진공 압력: 1.0×10-4토르
3펌핑 시간: 1 atm에서 1.0 × 10까지-4타워 ≤ 3분 (실온, 건조하고 깨끗하고 빈 방)
4금속화 물질 (스프터링 + 아크 증발): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC 등
5작동 모델: 완전 자동 / 반 자동 / 수동
 
MF 스프터링 시스템 구조
진공 코팅 기계는 아래와 같이 나열 된 핵심 완료 시스템을 포함합니다.
1진공실
2험한 진공 펌프 시스템 (백 펌프 패키지)
3. 고 진공 펌프 시스템 (마그네틱 서스펜션 분자 펌프)
4전기 제어 및 운영 시스템
5보조 시설 시스템 (부 시스템)
6퇴적 시스템: MF 스프터링 카थो드, MF 전원 공급, 선택적에 대한 Bias 전원 공급 Ion 소스
 
MF 스프터링 시스템 RTSP1212-MF 사양
 

모델 RTSP1212-MF
기술 MF 마그네트론 스프터링 + 이온 플래팅
소재 스테인리스 스틸 (S304)
방 크기 Φ1250*H1250mm
방의 유형 실린더, 수직, 1개의 문
스프터링 시스템 얇은 흑색 필름 퇴적용으로 설계된 제품
제출물질 알루미늄, 은, 구리, 크롬, 스테인리스 스틸,
니켈
매장 출처 2 세트 MF 실린더 스프터링 타겟 + 8 개의 유도 된 캐토드 아크 소스
가스 MFC-4방법, Ar, N2, O2, C2H2
통제 PLC (프로그램 가능한 논리 컨트롤러) +
펌프 시스템 SV300B - 1 세트 (레이볼드)
WAU1001 - 1 세트 (레이볼드)
D60T-2세트 (레이볼드)
터보 분자 펌프: 2* F-400/3500
치료 전 비아스 전원 공급: 1*36 KW
안전 시스템 많은 안전 잠금 장치 가 운영자 를 보호 합니다
냉각 차가운 물
전력 480V/3단계/60HZ (미국 규격)
460V/3단계/50HZ (아시아가 적합)
380V/3단계/50HZ (EU-CE 준수)
발자국 L3000*W3000*H2000mm
전체 무게 7.0 T
발자국 (L*W*H) 5000*4000*4000MM
사이클 시간 30~40분 (지질물질에 따라,
기판 기하학 및 환경 조건)
파워 맥스 155 KW

평균 전력
소비 (약)

75 KW





 티엔 금 금속 마그네트론 스프터링 코팅 머신, ZrN 골드 플래팅 서비스 0
 
 
 
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