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| 브랜드 이름: | ROYAL TECHNOLOGY |
| 모델 번호: | RT-R2R |
| MOQ: | 1 |
| 가격: | 협상 가능 |
| 지불 조건: | L/C,T/T |
| 공급 능력: | 4 sets/month |
롤-투-롤 웹 진공 스프터링 시스템 (Roll-to-Roll Web Vacuum Sputtering System) 은 얇은 필름을 유연한 기판에 부착하는 데 사용되는 제조 장비의 일종으로 한 롤에서 다른 롤로 지속적으로 공급됩니다.이 시스템은 일반적으로 전자 산업에서 사용됩니다., 광학 및 코팅, 태양 전지 및 유연한 전자제품과 같은 애플리케이션을 위한 패키지.
이 시스템에서는 진공 챔버를 사용하여 가늘고 얇은 필름을 움직이는 재료의 웹에 저장합니다.스프터링은 고체 대상 물질에서 원자나 분자가 에너지 입자에 의한 공격으로 인해 배출되는 과정입니다.이 추출 된 원자 또는 분자는 그 후 기판에 얇은 필름을 형성합니다.
롤-투-롤 웹 진공 스프터링 시스템은 일반적으로 다음과 같은 구성 요소를 포함합니다.
진공실: 이것은 제어 된 진공 조건에서 스프터링 과정이 이루어지는 곳입니다.
기판 처리 시스템: 이 시스템은 스프러팅 과정을 통해 유연한 기판의 움직임을 제어합니다.
금속 타겟으로 스프터링 카토드: 이것은 원자 또는 분자가 기판에 얇은 필름을 형성하기 위해 스프터링되는 재료입니다.
전원 공급 장치: 스프터링 프로세스에 필요한 전력을 제공합니다.
가스 공급 시스템: 이 시스템은 스프터링 프로세스에 필요한 가스를 공급합니다.
제어 시스템: 이것은 퇴적 속도, 필름 두께 및 균일성과 같은 프로세스 매개 변수를 제어합니다.
롤-투-롤 웹 진공 스프터링 시스템은 높은 처리량, 확장성, 그리고 얇은 필름으로 넓은 지역을 코팅하는 능력과 같은 장점을 제공합니다.유연한 기판에서 얇은 필름 물질의 대량 생산에 적합합니다..
롤-투-롤 웹 진공 스프터링 시스템에서, 다양한 유형의 스프터링 타겟은 퇴적되는 얇은 필름의 원하는 특성 및 응용에 따라 사용될 수 있습니다.몇 가지 일반적인 유형의 스프터링 표적은 다음과 같습니다:
금속 타겟: 이들은 순수한 금속 또는 금속 합금으로 만들어지며 일반적으로 금속 얇은 필름을 저장하는 데 사용됩니다. 예를 들어 알루미늄, 구리, 금, 은, 티타늄,그리고 스테인리스 스틸 타겟.
산화물 타겟: 이 타겟은 금속 산화물로 구성되어 있으며 산화물 얇은 필름을 저장하는 데 사용됩니다. 예를 들어 인디움 아연 산화물 (ITO), 아연 산화물 (ZnO), 탄탈산화물 (Ta2O5) 타겟입니다.
니트라이드 타겟: 이 타겟은 니트라이드 얇은 필름을 저장하는 데 사용됩니다. 예를 들어 티타늄 니트라이드 (TiN) 및 알루미늄 니트라이드 (AlN) 타겟을 포함합니다.
실리시드 타겟: 이 타겟은 금속 실리시드로 구성되어 있으며 실리시드 얇은 필름을 저장하는 데 사용됩니다. 예로 티타늄 실리시드 (TiSi2) 및 울프스탄 실리시드 (WSix) 타겟이 있습니다.
황화물 표적: 이 표적은 황화물 얇은 필름을 저장하는 데 사용됩니다. 예를 들어 몰리브덴 디 سول피드 (MoS2) 및 아연 황화물 (ZnS) 표적입니다.
복합 목표물: 이러한 목표물은 여러 재료로 구성되어 있으며 특정 특성을 가진 얇은 필름을 저장하는 데 사용됩니다. 예를 들어,타겟은 독특한 필름 조성을 위한 금속과 세라믹 재료의 조합이 될 수 있습니다..
합금 타겟: 이 타겟은 합금 조성물로 만들어지며 특정 특성을 가진 합금 얇은 필름을 퇴적하는 데 사용됩니다. 예를 들어 니켈-크롬 (NiCr), 니켈-티타늄 (NiTi),코발트-크롬 (CoCr) 합금 목표.
스프터링 타겟의 선택은 원하는 필름 구성, 두께, 구조 및 특성과 같은 요소에 달려 있습니다.롤-투-롤 웹 진공 스프터링 시스템에서 다양한 유형의 스프터링 타겟을 사용하여, 전자, 광학, 에너지 등 다양한 산업의 다양한 응용을 위해 다양한 얇은 필름 물질을 저장 할 수 있습니다.
응용 프로그램:
전자 종이, 유연 회로, 태양광, 의료 스트립, RFID (라디오 주파수 식별) 및 로우-E 필름, ITO 얇은 필름 코팅
롤 투 롤 (R2R) 웹 스프터링 퇴적 과정은 유연한 기판에 지속적으로 얇은 필름을 퇴적하기 위해 다양하고 확장 가능한 방법을 제공합니다.
이 기술은 다양한 산업 분야에서 광범위한 응용 프로그램을 찾습니다. 다른 재료의 얇은 필름으로 큰 영역을 빠른 속도로 코팅 할 수있는 능력 때문입니다.
R2R 웹 스프터링 퇴적의 몇 가지 일반적인 응용 분야는 다음과 같습니다.
유연한 전자: R2R 웹 스프터링은 유연한 디스플레이, RFID 태그, 스마트 카드 및 착용 가능한 전자 장치와 같은 유연한 전자 장치의 생산에 널리 사용됩니다.얇은 필름 트랜지스터의 퇴적을 가능하게 합니다., 전도 전극, 그리고 유연한 기판에 장벽 층.
태양전지: 얇은 필름 태양전지에는 반도체 또는 흡수층을 저장하기 위해 R2R 웹 스프터링이 유용합니다.
융통성 기판에 구리 인디움 갈륨 셀레닌이드 (CIGS) 를 사용한다. 이 기술은 비용 효율적이고 높은 처리량으로 얇은 필름의 태양광 장치를 제조할 수 있다.
장벽 필름: R2R 웹 스프터링은 유연한 기판에 우수한 가스 장벽 성질을 가진 장벽 필름을 퇴적하여 습도, 산소,다른 환경 요인이 장벽 필름은 패키지, 전자제품 및 디스플레이에 적용됩니다.
장식 코팅: R2R 스프터링 퇴적은 자동차 정비, 소비자 전자제품,그리고 건축 유리금속층, 산화질소 코팅 및 다층 간섭 코팅과 같은 재료는이 기술을 사용하여 적용 할 수 있습니다.
유연한 센서: R2R 웹 스프터링은 착용 가능한 센서, 의료 장치 및 IoT 응용 프로그램에서 응용을 위해 유연한 기판에 얇은 필름 센서 요소를 퇴적 할 수 있습니다.온도 센서와 같은 센서, 습도 센서 및 가스 센서는이 기술을 사용하여 제조 할 수 있습니다.
광학 필름: R2R 스프터링은 반사 방지 코팅, 반사 코팅, 광적 필터,디스플레이에 사용되는 색상 필터, 렌즈 및 광학 장치.
인쇄 전자 통합: R2R 웹 스프터링은 인쇄 및 스프터 구성 요소를 모두 갖춘 하이브리드 장치를 만들기 위해 인쇄 전자 프로세스와 통합 될 수 있습니다.
이 통합은 유연한 기판에 비용 효율적이고 기능적인 전자 장치의 생산을 가능하게합니다.
전체적으로, R2R 웹 스프터링 퇴적 기술의 다재다능성과 확장성은 전자, 에너지, 포장, 광학,센서유연한 기판에 얇은 필름이 필요한 경우
R2R 기계 레이아웃
| 멀티 웹 코터는 다음과 같은 주요 기능을 제공합니다: | ||||||||
| A. 다양한 퇴적원을 수용하기 위해 여러 압력 구역으로 나뉘어진 한 방. | ||||||||
| B. 여러 계층 코팅을 위한 하나의 웹 패스에서 여러 소스 동시 퇴적 기능. | ||||||||
| C. 회전 가능한 웹 와일링 방향은 진공을 깨지 않고 무제한 층을 퇴적 할 수 있습니다. | ||||||||
| D. 정밀 웹 처리 메커니즘, 가장자리 가이드를 통해 배열 손실 없이 여러 번 통과할 수 있다. (선택) | ||||||||
| E. 여러 개의 웹 속도를 정확하게 제어하기 위한 AC Invert 웹 드라이브 시스템. | ||||||||
| F. 선형 광학 및/또는 저항 두께 모니터링 시스템, 정밀한 퇴적 두께와 균일성을 제어하기 위해 (선택) | ||||||||
| G. 방은 SUS304L 스테인리스로 구성되어 있으며, 더 깊은 진공을 보장하기 위해 낮은 가스화 구성 요소가 있습니다. | ||||||||
| H. 터보 분자 펌프와 낮은 온도 크라이오젠틱스 조합으로 진공 펌핑을 통해 습기나 기름 오염 없이 깨끗한 진공을 공급한다. | ||||||||
| 저장 필름 | ||||||||
| 1기판 재료: PET, PEN, PES, PI, PC, PA, TAC... 필름 | ||||||||
| 2기판 두께: 15~300μm | ||||||||
| 3퇴적 방법: SiO2 ((Dielectric) 에 대한 AC 반응; ITO (금속 및 전도기) 에 대한 펄스 DC | ||||||||
| 4산화물 전도기 TCO: ITO, AZO, IZO... | ||||||||
| 5금속 선도자: | ||||||||
| 6광적 필름: Ta2O5, Nb2O5, SiO2, TiO2... | ||||||||
| 7반도체: ZnO, InGaZnO... | ||||||||
| 8방열제: SiO2, SiNx, AlOx, AlNx... | ||||||||
| 9균일성: ±5% | ||||||||
| 일반 사양 | ||||||||
| 진공 챔버 몸체: 단일 챔버 다중 압력 구역 | ||||||||
| 이동식 수송차: 웹 수송차 | ||||||||
| 퇴출 구역: 2 X 스프터링 구역 (선택: 3 스프터링 구역) | ||||||||
| 스프터링 소스: 2 X 듀얼 카소드 스프터 소스 (선택: 3 듀얼 카소드 스프터 소스) | ||||||||
| 기판 전처리기: 선형 이온 소스 | ||||||||
| 웹 너비: 1300mm | ||||||||
| 와일링 직경: Φ600mm 최대 | ||||||||
| 윙링 방향: 양방향 | ||||||||
| 기판 두께: 15~300μm | ||||||||
| 웹 라인 속도:0.5~10M/min | ||||||||
| 웹 긴장: 5.0PLI 최대 0.5PLI 분 | ||||||||
| 웹 정렬: ±3mm (하나의 통과) | ||||||||
| 하이 진공 펌프: 터보 펌프 | ||||||||
| 거친 진공 펌프: 건조 펌프 & 블로어 조합 | ||||||||
| 수분 펌프: 폴리콜드 크라이오겐 | ||||||||
| 퇴적 두께 제어: 모니터링 (선택) | ||||||||
| a: 광학 전송 b: 에디 전류 저항 | ||||||||
| 시스템 운영: PLC 기반 컴퓨터 시스템 운영 | ||||||||
| 진공실 | ||||||||
| 진공 방은 SUS304L 가늘게 닦은 스테인리스 스틸로 만든 수평 상자 형태로 구성되어 있으며, 한쪽 끝에는 플랜지 구멍이 있습니다.분할 구역 하부 부분은 액세서리와 함께 퇴적 소스를 포함합니다, 상부는 웹 캐리지를 수용 할 것입니다. | ||||||||
| 칸막이 구조: 한 개의 플랜지 개통을 가진 수평 상자 | ||||||||
| 챔버 구조: 단일 챔버 다압 구역 | ||||||||
| 방 프레임: SS41 가벼운 강철, 페인트 | ||||||||
| 방의 재료: SUS304L 닦은 스테인리스 스틸 | ||||||||
| 압력 구역 분단기: 알루미늄 판 | ||||||||
| 포트 소재: 폴리카보네이트 | ||||||||
| 진공 압력 구역: 4 (1 회전 구역, 2 퇴적 구역, 1 완충 구역) |
스프터링 카토드 분포
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