PVD 크롬/PVD 니켈
PVD 크롬 - 낮은 반사에서 높은 반사;
빛에서 어두운 크롬 피니싱으로
마그네트론 스프터링:
프로세스: 마그네트론 스프터링은 저압 플라즈마와 자기장을 사용하여 퇴적 챔버 내에서 플라즈마 방출을 생성합니다.
표적 물질: 표적 물질은 그래피트 또는 다른 금속 표적 (예를 들어, 티타늄 또는 크롬) 이 될 수 있으며 방에 탄소를 함유한 가스가 삽입됩니다.
이온화 및 퇴적: 플라즈마 방출은 목표물에서 금속 이온의 분출을 유발합니다. 이 이온은 시계 케이스 표면으로 가속됩니다. 동시에,탄소를 함유한 기체는 탄소 이온으로 분리됩니다., 표면의 금속 이온과 결합하여 DLC 코팅을 형성합니다.
장점:
코팅의 구성에 대한 더 나은 통제를 허용합니다.
좋은 코팅 두께 균일성을 달성 할 수 있습니다.
다양한 표적 재료를 사용하여 코팅 특성을 향상시키는 유연성을 제공합니다.
빛에서 어두운 크롬 피니싱으로
마그네트론 스프터링:
프로세스: 마그네트론 스프터링은 저압 플라즈마와 자기장을 사용하여 퇴적 챔버 내에서 플라즈마 방출을 생성합니다.
표적 물질: 표적 물질은 그래피트 또는 다른 금속 표적 (예를 들어, 티타늄 또는 크롬) 이 될 수 있으며 방에 탄소를 함유한 가스가 삽입됩니다.
이온화 및 퇴적: 플라즈마 방출은 목표물에서 금속 이온의 분출을 유발합니다. 이 이온은 시계 케이스 표면으로 가속됩니다. 동시에,탄소를 함유한 기체는 탄소 이온으로 분리됩니다., 표면의 금속 이온과 결합하여 DLC 코팅을 형성합니다.
장점:
코팅의 구성에 대한 더 나은 통제를 허용합니다.
좋은 코팅 두께 균일성을 달성 할 수 있습니다.
다양한 표적 재료를 사용하여 코팅 특성을 향상시키는 유연성을 제공합니다.
PVD 마그네트론 스프터링 코팅
스프터링 코팅 기계
마그네트론 스프터링 퇴적물
PVD 크롬
알루미늄 밀라화
PVD 크롬 페니쉬
PVD 니켈
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