X선 신틸레이터(CsI) 고진공 증착 시스템, CsI 이미징 코팅의 초고공간 분해능
CsI 고진공 증착 시스템은 초고진공 환경에서 신틸레이션 스크린의 CsI 금속화를 위해 독점적으로 설계되었습니다.
두께 200~600µm 범위의 CsI 신틸레이터는 두께 균일도와 밝기 성능이 우수합니다.
세슘 요오다이드(CsI) 증착 특성:
이미징의 초고공간 해상도;
더 선명한 이미지를 위한 빠른 응답;
에지 투 에지 이미지 영역을 선도하는 클래스;
광흡수층 또는 반사층;
낮은 환자 X선 선량;
신청: 보안 검색 및 검사, 고에너지 물리 교육, 핵 방사능 검출 및 의료 영상: 흉부 검사, 유방 촬영, 치과 구강 및 파노라마.
적용된 기질:TFT 유리, 광섬유 판, 비정질 탄소 판, 알루미늄 판
장비 특징:
신뢰할 수 있음:
24/7 일 논스톱 운영;
Inficon Film Thickness Controller는 필름 두께를 인라인으로 모니터링합니다.
온도 제어 정확도: ±1 ℃, 다단계 설정, 자동 온도 데이터 기록 및 제어
높은 정확도와 안정성을 위해 Servo-Motor가 장착된 로터리 랙.
안전:
고진공 펌프: 위험 물질이 공기 중에 노출되는 것을 방지하기 위해 질소 가스 송풍 장치가 있는 자기 서스펜션 분자 펌프;
모든 전극에는 안전 보호 슬리브가 장착되어 있습니다.
반복성 및 재현성:
고정밀 파라미터 제어 시스템을 통해,
자동화된 공정 제어 소프트웨어 및 프로그램,
사용자 친화적인 작업.
능률:
CsI-950A+ 모델은 1세대 CsI-950 모델을 기반으로 한 2회전 랙 구조입니다.
최대 2배 용량크기 기판: 500 x400mm.
기술 사양
설명 | CSI-950 |
CsI-950A+
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증착 챔버(mm)
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φ950×H1350 |
φ950×H1350
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로터리 랙 로딩 | 1 | 2 |
증발원 | 2 |
2
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가열 방식 |
요오드 텅스텐 램프 최대800℃ |
요오드 텅스텐 램프 최대800℃ |
최종 진공 압력(Pa) | 8.0×10-5Pa | 8.0×10-5Pa |
자기 서스펜션 분자 펌프 | 1 x 3400L/S |
1 x 3400L/S
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뿌리 펌프 | 1 x 490m³/h |
1 x 490m³/h
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로터리 베인 펌프 | 1 x 300m³/h |
1 x 300m³/h
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증착 컨트롤러 | 석영 제어 x 1 |
석영 제어 x 1
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전력 소비(KW) |
최대약62 평균 약.32 |
최대약65 평균 약.35 |
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