CsI 박막 증착 진공증착 기계 / 세슘 요오드화물 얇은 필름 열 증착 코팅 설비
세슘 요오드화물 얇은 필름 열 증착 코팅 연기
이미지화의 극단적 높은 공간 해상도 ;
더 날카로운 이미지화를 위한 빠른 응답 ;
에지-대-에지 이미지 영역을 이끄는 수업 ;
광학 흡수체막 또는 반사층 ;
낮은 참을성 있는 X-ray 량 ;
특히 의료 산업에서, CMOS와 CCD 기기에 적합합니다.
CMOS CCD 장치를 위한 CsI 박막 증착 진공증착 기계는 고급 품질을 주기 위해 화면에 CsI를 증발시키기 위해 선진 기술입니다.
효율 :
CsI-950A+ 모델은 세대 -1 CsI-950 모델을 기반으로 2가지 회전식 랙 구조와 함께 있습니다.
최대를 위한 이중 능력. 사이즈 기판 : 500 x400mm.
신뢰성 :
24/7 일 무정지 운전 ;
막두께 인라인을 모니터링하기 위한 인피콘 막두께 제어기.
온도 제어 정확도 : ±1 Ｃ, 다단계층 설정, 자동 온도 데이터 기록과 제어
회전식 락은 고정밀도와 안정성을 위한 서보-모터로 설비했습니다.
반복성 & 재현성 :
높은 정확한 이용 파라미터 제어 시스템을 통하여,
자동화된 프로세스 제어 소프트웨어와 프로그램,
사용자 편리성 작업.
안전성 :
고진공 펌프 : 위험 물질을 피하기 위한 질소 가스 분출 장치로, 마그네틱 서스펜션 분자 펌프는 공기에서 노출됩니다 ;
모든 전극은 안전 보호 슬레예프를 갖추고 있습니다
CsI 높은 진공 피착 시스템은 독점적으로 극단적으로 높은 진공 환경에서 신틸레이션 스크린 위의 CsI 금속화를 위해 설계됩니다. 두께와 휘도 성능의 높은 균일성과 두께 범위에서 CsI 신틸레이터 200~600um.
세슘 요오드화물 (CsI ) 기탁 특성화 :
이미지화의 극단적 높은 공간 해상도 ;
더 날카로운 이미지화를 위한 빠른 응답 ;
에지-대-에지 이미지 영역을 이끄는 수업 ;
광학적이 레이어 또는 반사층을 흡수합니다 ;
낮은 참을성 있는 X-ray 량 ;
애플리케이션 : 보안 검사와 사찰, 고에너지 물리 교육을 위한, 핵 방사선 탐지와 의료 영상 : 구술이고 개관적인 것 가운데에 치아인 자금 검사, 유방 X선 촬영법.
기판은 적용되었습니다 : TFT 글라스, 광섬유 판, 아몰퍼스-카본 플레이트, 알루미늄 판
| 기술 | CsI-950 |
CsI-950A+
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증착 챔버 (밀리미터)
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φ950 Ｘ H1350 |
φ950 Ｘ H1350
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| 회전식 락을 로딩하기 | 1 | 2 |
| 증발원들 | 2 |
2
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| 가열 방법 |
요오드 텅스텐 등 맥스. 800C |
요오드 텅스텐 등 맥스. 800C |
| 울티마티드 진공압 (Pa) | 8.0×10-5Pa | 8.0×10-5Pa |
| 마그네틱 서스펜션 분자 펌프 | 1 Ｘ 3400L/S |
1 Ｘ 3400L/S
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| 루츠 펌프 | 1 Ｘ 490m3/h |
1 Ｘ 490m3/h
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| 로터리 베인 펌프 | 1 Ｘ 300m3/h |
1 Ｘ 300m3/h
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| 증착 제어부 | 석영 제어 Ｘ 1 |
석영 제어 Ｘ 1
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| 소비 전력 (KW) |
맥스. 대략. 62 대략 평균이 되세요. 32 |
맥스. 대략. 65 대략 평균이 되세요. 35 |
더 많은 상술을 위해 우리에 연락하시오 그러면 왕족 기술은 당신에게 전체 도료 솔루션을 제공하는 것을 영광으로 생각합니다.
