구리 박막 코팅 기계, Au 전도성 박막 침을 튀기기 증착 공장, 은 침을 튀기기 코팅 시스템
구리마그네트론 스퍼터링 진공 코팅기
1) 필름 두께 제어 가능성 및 반복성이 우수하며 균일한 필름의 더 큰 표면에서 미리 도금된 필름 두께 및 스퍼터링의 신뢰할 수 있는 시스템이 될 수 있습니다.
2) 필름과 기재의 접착력이 매우 우수하다.스퍼터링된 원자의 높은 에너지 중 일부는 서로 다른 수준의 주입 현상을 생성하고, 스퍼터링된 원자와 기판 원자가 서로 융합된 기판 층에 형성된 의사 확산층;
3) 필름의 특수 재료 준비, 다른 재료와 스퍼터링 하이브리드 필름, 복합 필름을 사용할 수 있으며 TiN 모조 금 필름으로 스퍼터링 할 수도 있습니다.
구리마그네트론 스퍼터링 진공 코팅기 사양
| 마그네트론 스퍼터링 코팅기 | ||||||
| 성능 | RTSP-700 | RTSP-900 | RTSP-1000 | RTSP-1250 | RTSP-1400 | RTSP-1600 |
| 코팅 챔버의 크기 | 700*H900mm | 900*H1100mm | 1000*H1200mm | 1250*H1350mm | 1400*H1600mm | 1600*H1800mm |
| 전원 유형 | 필라멘트 전원 공급 장치, 펄스 바이어스 전원 공급 장치, DC 마그네트론 전원 공급 장치, 중간 주파수 마그네트론 전원 공급 장치, 무선 주파수 마그네트론 전원 공급 장치, 선형 이온화 소스 | |||||
| 진공 챔버의 구조 | 수직 양문형, 수직형 전면 도어 구조, 후면 배기 시스템 | |||||
| 진공 챔버의 재질 | 고품질 스테인리스 스틸 캐비티 | |||||
| 한계 진공 | 6.0*10-4Pa | |||||
| 펌프다운 시간(무부하) | 분위기를 8.0*10으로 펌핑-삼>Pa ≤15분 | |||||
| 진공 획득 시스템 | 확산 펌프 또는 분자 펌프 + 루츠 펌프 + 기계식 펌프 + 로터리 베인 펌프 (특정 모델은 고객 요구 사항에 따라 구성 가능) | |||||
| 코팅 모드 | 마그네트론 스퍼터링 코팅 | |||||
| 필름 종류 | 금속막, 반응성막, 복합막, 다층막 및 반도체막 | |||||
| 마그네트론 대상 유형 | 직사각형 마그네트론 타겟, 원통형 마그네트론 타겟 및 트윈 마그네트론 타겟 | |||||
| 마그네트론 공급 전력 및 마그네트론 타겟 수 | 다양한 코팅 공정 및 고객 요구 사항에 따라 선택 | |||||
| 바이어스 전원 공급 장치 | 10KW/1개 | 20KW/1대 | 20KW/1대 | 30KW/1대 | 40KW/1대 | 50KW/1대 |
| 공작물 턴테이블의 회전 모드 | 유성 회전 및 자동 회전, 가변 주파수 속도 조절(제어 및 조정 가능) | |||||
| 공정 가스 | 3-경로 또는 4-경로 공정 가스 흐름 제어 및 표시 시스템, 선택적 자동 가스 공급 시스템 | |||||
| 냉각 모드 | 물 순환 냉각 모드, 냉각수 타워 또는 산업용 냉각기 또는 심층 냉각 시스템.(고객 제공) | |||||
| 제어 모드 | 수동/자동 통합 모드, 터치 스크린 작동, PLC 또는 컴퓨터 제어 | |||||
| 총 전력 | 30KW | 35KW | 40KW | 50KW | 65KW | 80KW |
| 경보 및 보호 | 물 부족, 과전류 및 과전압, 개방 회로 및 기타 펌프, 타겟 등의 이상 상태를 경보하고 관련 보호 조치 및 전기 인터록 기능을 실행합니다. | |||||
| 장비 영역 | W2m*L3m | W2.5m*L3.5m | W3m*L4m | W4m*L5m | W4.5m*L6m | 폭5m*L7m |
| 기타 기술 매개변수 | 수압 ≥0.2MPa, 수온 ≤25°C, 기압: 0.5-0.8MPa | |||||
| 비고 | 코팅 장비의 특정 구성은 코팅 제품의 공정 요구 사항에 따라 설계될 수 있습니다. | |||||
자세한 사양은 당사에 문의하십시오. Royal Technology는 귀하에게 토털 코팅 솔루션을 제공하게 된 것을 영광으로 생각합니다.
