August 10, 2018
------------------- 기사는 도널드 M. Mattox에 의하여 입니다
(IP)를 도금하는 이온은 때때로 이온에 의하여 원조된 공술서 (IAD) 또는 이온 수증기 공술서 (IVD)에게 불리고 진공 공술서의 버전인 수증기 공술서 (PVD) 육체적인 과정입니다. 이온 도금은 원자 치수가 재진 정력적인 입자에 의하여 기질의 동시 정기적인 사격, 및 예금 영화를 이용합니다. 공술서 이전에 사격은 청결한 기질 표면을 침을 튀기기 위하여 이용됩니다. 공술서 도중 사격은 예금 영화의 재산을 변경하고 통제하기 위하여 이용됩니다. 원자로 청결한 공용영역을 유지하기 위하여 사격이 과정의 청소와 공술서 부분 사이 지속적 있다 중요합니다.
예금 입자에 포격 입자의 비율과 함께 에너지를, 포격 종의 유출 그리고 질량은 도금하는 이온에서는 중요한 공정 변수입니다. 예금 물자는 증발, (비스듬한 침을 튀기기) 침을 튀기고는, 아크 증발에 의해 또는 화학 수증기 선구자 화학 수증기 공술서 (CVD)의 분해에 의해 기체화될지도 모릅니다. 사격에 사용된 정력적인 입자는 보통 집광 영화 물자 (“영화 이온 ")의 비활성 민감하는 가스, 어떤 경우에는, 이온의 이온입니다. 이온 도금은 사격을 위한 이온이 플라스마에서 추출되는 플라스마 환경에서 또는 사격을 위한 이온이 분리되는 이온총에서 형성되는 진공 환경에서 행해질지도 모르다지 끝날 수 있습니다. 후반 이온 도금 윤곽은 수시로 이온살 원조한 공술서 (IBAD)에게 불립니다. 플라스마에 있는 민감하는 가스 또는 수증기을 이용하여, 합성 물자의 영화는 예금될 수 있습니다.
이온 도금은 공구에 합성 물자의 단단한 코팅, 고밀도를 가진 부착한 금속 코팅, 광학적인 코팅, 및 복잡한 표면에 등각 코팅을 예금하기 위하여 이용됩니다.
왕 기술이 몇몇 시리즈에 의하여 표준화된 PVD 진공 코팅 기계를 발육시킨 상해는 광대하게 각종 장식적인 코팅 그리고 기능적인 영화로 같이 적용된 이온 도금 기술의, 기초를 두었습니다: 단단한 코팅, 부식과 찰상 착용 재산, 높은 유도 및 사려깊은 코팅.
이 기계는 플라스마 청소 전처리를 위한 이온 사격 장치를 갖추고, Ar, acritive에 H2 같이 iner 가스에서 기질 표면 소개하고, 기질과 depostion 영화 사이 접착을 찬성합니다.
접착시키는 층은 특별한 기질을 위해 때때로 요구됩니다. 조준하는 왕 기술은 각 최종 사용자에게 총 턴키 코팅 해결책 제공합니다.
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