August 10, 2018
음극 아크 Depositon는 무엇입니까?
음극 아크 공술서 또는 아크 PVD는 음극선 표적에서 물자를 기체화하기 위하여 전기 아크가 이용되는 육체적인 수증기 공술서 기술입니다. 기체화한 물자는 박막을 형성하는 기질에 그 때 집광합니다. 기술은 금속, 세라믹의, 그리고 합성 영화를 예금하기 위하여 이용될 수 있습니다.
음극 아크 depositon 과정:
아크 증발 과정 시작됩니다로 치의 높은 현재, 낮은 전압 아크에 표면의 (작은 것 초래하다 표적으로 알려져 있는) 음극선 (보통 넓게 약간 micrometres), 음극 휘점으로 알려져 있는 높게 정력적인 방출 지역. 음극 휘점에 지방화한 온도는 극단적으로 높습니다 (기체화한 음극선 물자의 높은 각측정속도 (10 km/s) 제트기 귀착되는 음극선 표면에 대화구를 뒤에 남겨두는 약 15000 °C). 음극 휘점은 단기간 동안 활동적입니다, 그 후에 이전 대화구에 새로운 지역 가깝 것에서서만 각자 진화하고 다시 불붙입니다. 이 행동은 아크의 명백한 동의를 일으키는 원인이 됩니다.
아크가 기본적으로 급속하게 표적의 전체 표면에 아크를 이동하기 위하여 실제로는 이용되는, 전자장의 신청에 의해 좌우될 수 있는 현재 나르기 지휘자이기 때문에, 총 표면 시간이 지남에 따라 침식되다 그래야.
아크에는 이온화 (30-100%), 배수에 의하여 위탁된 이온, 중립 입자, 송이 및 모듬 명령 입자 (작은 물방울)의 고도의 결과로 극단적으로 고성능 조밀도가 있습니다. 민감하는 가스가 증발 과정 도중 소개되는 경우에, 분리, 이온화 및 흥분은 이온 유출과의 상호 작용 도중 생길 수 있고 합성 영화는 예금될 것입니다.
아크 증발 과정의 아래쪽 것은 증발 점에 음극 휘점 체재가 너무 오랫동안 그것 다량의 모듬 명령 입자 또는 작은 물방울을 분출할 수 있는 경우에 입니다. 이 작은 물방울은 가난하게 고착되고기 코팅까지 계속되어 좋기 때문에 코팅의 성과에 유해합니다. 음극선 표적 물자에는 알루미늄과 같은 낮은 융해점이 있는 경우에 아직도 더 나쁜 음극 휘점은 증발하는 표적 후면 플레이트 물자 또는 약실에 들어가는 찬물의 결과로 표적을 통해서 증발할 수 있습니다. 그러므로 이전에 언급되는 것과 같이 자기장은 아크의 동의를 통제하기 위하여 이용됩니다. 원통 모양 음극선이 사용되는 경우에 음극선은 또한 공술서 도중 자전할 수 있습니다. 음극 휘점을 허용하서 사용될 수 있고 1개의 위치 너무 긴 알루미늄 표적에서 남아 있는 작은 물방울의 수는 감소됩니다. 몇몇 회사는 또한 코팅 유출에서 작은 물방울을 분리하기 위하여 자기장을 이용하는 걸러진 아크를 이용합니다.
음극 아크 공술서 신청:
음극 아크 공술서는 활발히 극단적으로 단단한 절단 도구의 표면을 보호하고 그들의 생활을 두드러지게 연장하기 위하여 영화를 종합하도록 이용됩니다. 다양한 얇은 단단하 영화, Superhard 코팅 및 nanocomposite 코팅은 주석, TiAlN, CrN, ZrN, AlCrTiN 및 TiAlSiN를 포함하여 이 기술에 의해 종합될 수 있습니다.
이것은 또한 특히 확실히 광대하게 이용됩니다 탄소 이온 공술서가 탄소 영화 다이아몬드 같이 창조하도록. 이온이 표면에서 탄도로 폭파되기 때문에, 분출될 원자의 뿐만 아니라 단 하나 원자, 그러나 더 큰 송이를 위해 일반적 입니다. 따라서, 체계의 이 종류는 여과기가 공술서의 앞에 광속에서 원자 송이를 제거할 것을 요구합니다. 거르 아크에서 DLC 영화는 4면체 무조직 탄소로 알려지는 sp3 다이아몬드, 또는 TAC의 극단적으로 높은 백분율을 포함합니다.
걸러진 음극 아크는 이온 주입과 플라스마 침수 이온 주입과 공술서 (PIII&D)를 위해 금속 이온/플라스마 근원으로 이용될 수 있습니다.
둥근 음극 아크 음극선 및 원통 모양 아크 음극선은 각종 PVD 장식적인 코팅을 위해 널리 이용됩니다.
다 아크 진공 Coater의 디자인:
서쪽에서 널리 이용되는, Sablev 유형 음극 아크 근원은 1개의 무제한 대출 제공을 가진 음극선에 짧은 원통 모양 모양 전기 전도성 표적으로 이루어져 있습니다. 이 표적에는 아크 금고 반지 (Strel'nitskij 방패)로 전기 뜨 금속 반지에 의하여 포위된 일이 있습니다. 체계를 위한 양극은 진공 약실 벽 또는 분리된 양극 일 수 있습니다. 아크 반점은 치는 기계적인 방아쇠 (또는 점화기)에 의해 음극선과 양극 사이 단락을 일시적으로 만드는 표적의 무제한 대출 제공에 생성됩니다. 생성하 그들은 자기장 결핍에서 자기장 또는 움직임에 의해인 아크 반점 후에 무작위로 조타될 수 있습니다.
음극 아크 근원에서 플라스마 광속은 거르기의 어떤 없이 몇몇 신청을 위해 유용한에서 그것을 방지하는 분자 (소위 모듬 명령 입자)의 몇몇 더 큰 송이를 포함합니다, 원자. 모듬 명령 입자 여과기를 위한 많은 디자인이 있고 공부된 디자인은 1970년대에서 I.I. Aksenov에 의해 일에 그 외. 근거를 둡니다. 그것은 아크 근원에서 90 도에 내무반 화탁 덕트 경향으로 이루어져 있고 플라스마는 플라스마 광학의 원리에 의해 덕트에서 인도됩니다.
또한 1990년대에 있는 D.A. Karpov에 의해 보고되는 것과 같이 끝을 자른 콘 모양 음극선을 가진 똑바른 덕트 여과기 붙박이를 통합하는 디자인과 같은 다른 재미있는 디자인이 있습니다. 이 디자인은 러시아와 이전 소련 사회주의 연방 공화국 국가에 있는 두 얇은 단단하 영화 coaters 그리고 연구원 전부 중 지금까지 확실히 대중적 되었습니다. 음극 아크 근원은 긴 관 모양 (장시간 아크) 또는 긴 직사각형 모양으로 할 수 있습니다 그러나 두 디자인 다 보다 적게 대중적입니다.
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